Nếu hít phải 3-amino-5-mercapto-1,2, 4-triazole, vui lòng chuyển bệnh nhân đến nơi thoáng khí; trong trường hợp tiếp xúc với da, cởi quần áo bị nhiễm bẩn và rửa da kỹ bằng nước và xà phòng. Nếu bạn cảm thấy không thoải mái, hãy tìm lời khuyên y tế; Nếu bạn bị dính vào mắt, hãy tách hai mí mắt ra, rửa sạch bằng nước chảy hoặc nước muối sinh lý thông thường và đến bác sĩ ngay lập tức; nếu nuốt phải, súc miệng ngay lập tức, không nôn mửa và đến bác sĩ ngay lập tức.

Nó được sử dụng để chuẩn bị một dung dịch làm sạch photoresist

Trong quy trình sản xuất đèn LED và chất bán dẫn thông thường, mặt nạ photoresist được hình thành trên bề mặt của một số vật liệu, và mô hình được chuyển sau khi tiếp xúc. Sau khi có được mẫu theo yêu cầu, cần loại bỏ chất cản quang còn lại trước khi xử lý tiếp theo. Trong quá trình này, cần phải loại bỏ hoàn toàn chất cản quang không cần thiết mà không làm ăn mòn bất kỳ chất nền nào. Hiện tại, dung dịch làm sạch photoresist chủ yếu bao gồm dung môi hữu cơ phân cực, kiềm mạnh và / hoặc nước, v.v ... photoresist trên wafer bán dẫn có thể được loại bỏ bằng cách nhúng chip bán dẫn vào dung dịch tẩy rửa hoặc rửa chip bán dẫn bằng dung dịch tẩy rửa .

Một loại dung dịch tẩy rửa photoresist mới đã được phát triển, đó là chất tẩy rửa ăn mòn thấp không chứa nước. Nó chứa: rượu amin, 3-amino-5-mercapto-1,2,4-triazole và cosolvent. Có thể sử dụng loại dung dịch làm sạch photoresist để loại bỏ photoresist trong đèn LED và chất bán dẫn. Đồng thời, nó không bị tấn công vào chất nền, chẳng hạn như nhôm kim loại. Hơn nữa, hệ thống có khả năng chống nước mạnh và mở rộng cửa sổ hoạt động. Nó có triển vọng ứng dụng tốt trong lĩnh vực làm sạch đèn LED và chip bán dẫn.